プレスリリース

2018.9.26

研究開発拠点(横浜技術センター)の拡充について

当社は、この度、LEDや半導体レーザーの応用技術の研究・開発体制を充実するとともに、更に長期的視野に立って光のイノベーションに本格的に取り組むため、下記のとおり横浜技術センターに新たな研究棟を建築し、拡充することといたしましたのでお知らせします。

1.新築する施設の概要

名称 横浜技術センター2号館(略称:YTEC2号館)
所在 神奈川県横浜市神奈川区守屋町三丁目
建物 構造:鉄筋コンクリート造(RC造)・鉄骨造(S造)免震構造
階数:地上6階建
寸法:東西58m×南北28m×高さ34m
延床面積:約8,800m2
 新棟は、1号館横にあったショールームと実験棟を兼ねた旧館を解体撤去した跡地に建設するものです。
用途 次世代ナノフォトニクス(注1)・量子エレクトロニクス(注2)の応用研究および技術開発等
工期 2018年10月~2020年3月(2020年3月31日竣工予定)
新棟との外観やデザインの統一を図るため2号館の竣工後、直ちに1号館の改修に取りかかる予定です。

2.投資の概要

LEDおよび半導体レーザーは、照明やバックライト用途、自動車の内外装等車両への搭載、プロジェクターの光源など様々な分野へ利用範囲が大きく広がっています。このような状況の中、当社は光半導体の応用研究を更に加速させていくとともに、イノベーションを起こすべく萌芽的研究開発にも挑戦していく計画であり、その一環として横浜技術センターに新たな研究棟(2号館)を建設し、光を究め・操る拠点としての機能を拡充いたします。

光は、波動性と同時に粒子性の両方の性格を有しております。新棟では粒子の側面からも研究を進め、当社の光に関するソリューションをより前進させることを企図しております。

新研究棟の建設費は、約47億円を予定しており、既存の1号館の改修や取り合わせ工事などを合せて約56億円の投資を見込んでおります。これにより、人員を100人規模まで増員できる体制を整え、本社の研究開発本部および諏訪技術センターと連携し、夢創りに取り組んでまいります。

なお、従来にも増して最先端の光に関わる研究に取り組む拠点との位置づけが高まることに鑑み、建物の意匠デザインについては、より先進的な表現を取り入れるため、世界的な建築家の妹島和世氏の建築設計事務所に2号館の1階(旧1号館ロビー改修を含む)および外観デザインの設計・デザインを担当いただき、構造体を中心とした建屋全体の設計施工は竹中工務店に委託しております。

(注1)フォトン(光子、光の粒子)でナノスケールの構造を加工・制御・計測する科学技術
(注2)分子や原子の働き、およびその量子力学的定常状態の間の遷移を応用した技術

本件に関するお問い合わせ先

日亜化学工業株式会社
広報担当
代表TEL:0884-22-2311
FAX:0884-23-7717